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他人也都第一时间把目光集中到了徐昀身上静静等待答案。
花费两天时间看完所里的光刻机项目资料后，徐昀知道国产极紫外光刻机主要面临的问题，主要分为光源和掩膜以及投影光学系统等。
极紫外光刻机光源发出的极紫外光线，极其容易被物质吸收。
光束经过多次反射后，只有不到2％的光线能使用。
能量转化率极低。
因此需要强大光源，来保证射线光源足够强。
另外极紫外光波长为135n，由于容易被镜头玻璃等材料吸收，还会被空气和气体吸引影响折射率变化。
腔体需要采用真空系统。
投影光学系统则必须使用反射镜代替透镜，这使得反射镜的精度要求很高，同时制造成本昂贵。
掩膜方面因为极紫外光线的特殊性，普通掩膜版非常容易破坏，这就需要研发出特殊的掩膜版。
可以说这几项问题每个单独拿出来，都需要研究所进行大量长时间的研究。
并且还不见得一定会有成果。
足可见制造整台极紫外高端光刻机的难度。
也怪不得海外半导体领域有恃无恐，并不担心他们能够实现高端芯片制造产业链国产化。
幸好高端光刻胶的问题已经解决，否则便相当于是又增加了难度。
徐昀弄清楚这些的同时自然也有了方向，这时面对罗长辉的询问并未隐瞒什么，当即便大方讲出了自己接下来的规划。
“我打算先解决光源问题。”
在场的研究员很清楚这些问题都要解决，先主攻哪个并无多大区别。
自然不会对徐昀的决定提出质疑。
相反听到这个答案后纷纷点头表示附和。
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